|
專利所修業規定 |
|
學生應於學位考試前完成論文原創性比對作業，並於學位考試當日將論文比對報告書送交指導教授及學位考試委員參考。經本所(111.10.19) 111學年度第二次所務會議決議，本所論文原創性比對相似度標準須低於30％，且不使用Turnitin篩選條件。學生論文若因特殊情況超過本所標準30%，如論文主題為進行判決研究或文本分析等，可能大量引用原稿，得由指導教授提出說明，並經所務會議討論同意後，仍可申請學位論文考試。 |
|
專利研究所(日間部)修業規定(pdf格式) 自109學年度第一學期修業滿1年學生適用(及109學年度起入學之研究生適用) |
|
專利研究所(日間部)修業規定(pdf格式) 自112學年度起入學之研究生適用 New! |
|
專利研究所碩士在職專班修業規定(pdf格式) 自109學年度第一學期修業滿1年學生適用(及109學年度入學之研究生適用) |
|
專利研究所碩士在職專班修業規定(pdf格式) 自110學年度起入學之研究生適用 |
|
專利研究所碩士在職專班修業規定(pdf格式)自113學年度起入學之研究生適用 |